1.双嵌入式铜互连工艺
　　随着芯片集成度的不断提高，铜已经取代铝成为超大规模集成电路制造中的主流互连技术。作为铝的替代物，铜导线可以降低互连阻抗，降低功耗和成本，提高芯片的集成度、器件密度和时钟频率。

　　由于对铜的刻蚀非常困难，因此铜互连采用双嵌入式工艺，又称双大马士革工艺（Dual Damascene），1）首先沉积一层薄的氮化硅（Si3N4）作为扩散阻挡层和刻蚀终止层，2）接着在上面沉积一定厚度的氧化硅（SiO2），3）然后光刻出微通孔（Via），4）对通孔进行部分刻蚀，5）之后再光刻出沟槽（Trench），6）继续刻蚀出完整的通孔和沟槽，7）接着是溅射（PVD）扩散阻挡层（TaN/Ta）和铜种籽层（Seed Layer）。Ta的作用是增强与Cu的黏附性，种籽层是作为电镀时的导电层，8）之后就是铜互连线的电镀工艺，9）最后是退火和化学机械抛光（CMP），对铜镀层进行平坦化处理和清洗。

　　电镀是完成铜互连线的主要工艺。集成电路铜电镀工艺通常采用硫酸盐体系的电镀液，镀液由硫酸铜、硫酸和水组成，呈淡蓝色。当电源加在铜（阳极）和硅片（阴极）之间时，溶液中产生电流并形成电场。阳极的铜发生反应转化成铜离子和电子，同时阴极也发生反应，阴极附近的铜离子与电子结合形成镀在硅片表面的铜，铜离子在外加电场的作用下，由阳极向阴极定向移动并补充阴极附近的浓度损耗。电镀的主要目的是在硅片上沉积一层致密、无孔洞、无缝隙和其它缺陷、分布均匀的铜。

　　2.电镀铜工艺中有机添加剂的作用

　　由于铜电镀要求在厚度均匀的整个硅片镀层以及电流密度不均匀的微小局部区域（超填充区）能够同时传输差异很大的电流密度，再加上集成电路特征尺寸不断缩小，和沟槽深宽比增大，沟槽的填充效果和镀层质量很大程度上取决于电镀液的化学性能，有机添加剂是改善电镀液性能非常关键的因素，填充性能与添加剂的成份和浓度密切相关，关于添加剂的研究一直是电镀铜工艺的重点之一[1，2].目前集成电路铜电镀的添加剂供应商有Enthone、Rohm&Haas等公司，其中Enthone公司的ViaForm系列添加剂目前应用较广泛。ViaForm系列包括三种有机添加剂：加速剂（Accelerator）、抑制剂（Suppressor）和平坦剂（Leverler）。当晶片被浸入电镀槽中时，添加剂立刻吸附在铜种籽层表面，如图3所示。沟槽内首先进行的是均匀性填充，填充反应动力学受抑制剂控制。接着，当加速剂达到临界浓度时，电镀开始从均匀性填充转变成由底部向上的填充。加速剂吸附在铜表面，降低电镀反应的电化学反应势，促进快速沉积反应。当沟槽填充过程完成后，表面吸附的平坦剂开始发挥作用，抑制铜的继续沉积，以减小表面的粗糙度。

　　加速剂通常是含有硫或及其官能团的有机物，例如聚二硫二丙烷磺酸钠（SPS），或3-巯基丙烷磺酸（MPSA）。加速剂分子量较小，一般吸附在铜表面和沟槽底部，降低电镀反应的电化学电位和阴极极化，从而使该部位沉积速率加快，实现沟槽的超填充。

　　抑制剂包括聚乙二醇（PEG）、聚丙烯二醇和聚乙二醇的共聚物，一般是长链聚合物。抑制剂的平均相对分子质量一般大于1000，有效性与相对分子质量有关，扩散系数低，溶解度较小，抑制剂的含量通常远大于加速剂和平坦剂。抑制剂一般大量吸附在沟槽的开口处，抑制这部分的铜沉积，防止出现空洞。在和氯离子的共同作用下，抑制剂通过扩散-淀积在阴极表面上形成一层连续抑制电流的单层膜，通过阻碍铜离子扩散来抑制铜的继续沉积。氯离子的存在，可以增强铜表面抑制剂的吸附作用，这样抑制剂在界面处的浓度就不依赖于它们的质量传输速率和向表面扩散的速率。氯离子在电镀液中的含量虽然只有几十ppm，但对铜的超填充过程非常重要。如果氯浓度过低，会使抑制剂的作用减弱；若氯浓度过高，则会与加速剂在吸附上过度竞争。

[1] [2] [3]

　　考试交流区成绩查询交流群（点击加入QQ群可快速加群交流成绩查询相关信息我们会及时在群里通知）：

　　（群：129722917）　

　　温馨提示：有任何报考及考试相关疑问，可添加网校专业老师个人微信号“edu24olxu”咨询。！考生可下载手机APP，随时掌握考试资讯！

扫一扫上面的二维码，添加老师个人微信号，所有课程七折开通

　　1·2023年一级建造师报名时间

　　2·一级建造师报考条件

　　3·一级建造师考试真题

　　4·2022年一级建造师成绩查询时间

　　5·2023年一级建造师考试时间9月9、10日

　　6·一级建造师考试科目

閻滎垳鎮嗙純鎴炵墡 娑撯偓缁狙冪紦闁姴绗€	娑撴槒顔夐懓浣哥瑎	閸╄櫣顢呴梼鑸殿唽			瀵搫瀵查梼鑸殿唽			濡も偓鍐槸妫帮拷		鎼存棁鐦幎鈧褏褰� VIP閻欘兛闊�
		閺佹瑦娼楃划鎹愵唹 閿涳拷40鐠佽绱�	缂佸繐鍚€娑旂娀顣� (12鐠侊拷)		闁插秶鍋ｉ崘鎻掑煛 (16鐠侊拷)	閼板啰鍋ｇ憴锝嗙€� (10鐠侊拷)
瀵ら缚顔曞銉р柤缂佸繑绁�	瀵姵鎭�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
瀵ら缚顔曞銉р柤妞ゅ湱娲扮粻锛勬倞	瀵姴鎮�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
瀹搞儳鈻煎▔鏇☆潐閸欏﹦娴夐崗宕囩叀鐠囷拷	閻滃闄勯梿锟�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
瀵よ櫣鐡氬銉р柤缁狅紕鎮婃稉搴＄杽閸旓拷	閻滃鐖叉禍锟�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
閺堣櫣鏁稿銉р柤缁狅紕鎮婃稉搴＄杽閸旓拷	閼诲繐鈹�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
閸忣剝鐭惧銉р柤缁狅紕鎮婃稉搴＄杽閸旓拷	妤傛ḿ骞夐悳锟�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
鐢倹鏂傞崗顒傛暏瀹搞儳鈻肩粻锛勬倞	閺夊氦骞�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
闁句浇鐭惧銉р柤缁狅紕鎮婃稉搴＄杽閸旓拷	鐎涙瑦鏋冨▔锟�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
濮樻潙鍩勫瀵告暩瀹搞儳鈻肩粻锛勬倞	閻╂稒婢楀☉锟�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
闁矮淇婇獮璺ㄦ暩瀹搞儳鈻肩粻锛勬倞	閺夈劑绠�	閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			閸忓秷鍨傜拠鏇炴儔			娑撳顨滃Ο鈩冨珯妫帮拷
閵嗭拷鐠囧墽鈻肩€涳箒鍨�閵嗘垹绨跨拋鑼疆閸樼喍鐜�700閸忥拷/缁夛拷,閻滐拷5閹舵ü绺鹃柨鈧�350閸忥拷/缁夛拷.婢跺洩鈧啯瀵氱€佃偐褰�300閸忥拷/缁夛拷,閻滄澘鍘ょ拹纭呯闁拷 閵嗭拷闂嗚泛鐔€绾偓缁変焦鏆€婵傛顦�閵嗘垿娴傞崺铏诡攨缁鍨拠鍓р柤+閻╁瓨鎸辩€靛棜顔�+閸愬懘鍎寸挧鍕灐閿涘本鈧繄娣€电厧娴橀敍鍫濆瘶闁喖鍩岀€硅绱�閼板啳鐦稉宥堢箖閸忓秷鍨傞柌宥咁劅1楠烇拷=5980閸忥拷/閸忋劎顫栭敍鍫濇儓4缁夋埊绱�+闁拷2023楠炴潙鍙忕粔鎴炴殌閺夛拷>>缁斿宓嗙拹顓濇嫳 閵嗭拷閸忋劎鈻奸悵顓烆殰妞侊拷閵嗘垵鎯堟稉澶愭，閸忣剙鍙＄拠锟�+娑撯偓闂傘劋绗撴稉姘愁嚦婢跺洩鈧啯瀵氱€佃偐褰�+閼板啰鍋ｇ划鎹愵唹閻濓拷+閺呴缚鍏樻０妯虹氨+1V1閻╁瓨鎸遍崺铏诡攨閻濓拷+閼板啫澧犳惔鏃囩槸閹垛偓瀹革拷+閻喖顣界憴锝嗙€介悵锟�+鎼存棁鐦幎鈧褏褰�+閻╁瓨鎸辨径褏褰拠锟�=2600閸忥拷/閸忋劎顫�>>缁斿宓嗙拹顓濇嫳 閵嗭拷娑撯偓缁狙冪紦闁姴绗€娴滄垹顫嗘繅鎯ь殰妞侊拷閵嗘垶鏆€閺夋劗绨跨拋锟�+闁插秶鍋ｉ崘鎻掑煛+閻喖顣界憴锝嗙€�+缂佸繐鍚€娑旂娀顣�+婢舵艾鐛熸担鎾活暯鎼达拷+1V1閻╁瓨鎸遍弫娆忣吇+鎼存棁鐦幎鈧锟�+鐎圭偛濮熺粣浣虹壃+閻滄澘婧€鐎圭偞鎼�+閸愬懘鍎寸挧鍕灐+閺堝牐鈧啫宓�+閻╁瓨鎸辩粵鏃傛瀿+娑擃亝鈧冨閺佹瑥顒熺化鑽ょ埠+閼板啳鐦稉宥堢箖閸忓秷鍨傞柌宥咁劅2楠烇拷+閹繄娣€电厧娴�+閸氬秴绗€鐠佽弓绠熼崣濠傛倱濮濄儱宸遍崠鏍唲缂侊拷+閸樺棗鍕鹃惇鐔碱暯閸欏﹥膩閹风喎宓�+濡楀牅绶ュ鍝勫娑撯偓閺堫剟鈧拷+2023閸忋劎顫栫€规ɑ鏌熼弫娆愭綏閿涘牆瀵橀柇顔煎煂鐎硅绱�閸忋劎顫栨總妤咁樀8800閸忥拷>>缁斿宓嗙拹顓濇嫳